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什么是光敏印章和发展历史

所属分类:时事聚焦    发布时间: 2021-08-13    作者:admin
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敏印章是章墨一体印章,该印章是目前..上.新型的一种印章,光敏印章基本原理是利用特殊材料的感光性,在印章表面不需要印迹的地方形成一层不能渗透的膜,从而达到印章的效果。印油通过光敏平面橡胶渗透,因此,使用光敏印章制作印章速度快。中江光敏印章的工艺特点是印面相对比较平整,印面字迹是由光敏橡胶垫上的微孔组成的,印油在压力作用下,通过印面文字微孔渗出形成印文。

    光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的,它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辅射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命,完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像极其清晰,无需印泥,即印即干的特点。其印迹可与印刷品质媲美,是目前.好的、...的印章产品,美观耐用,无须印台。(一次注油可印10000次以上)